EDI超纯水设备

EDI（Electrodeionization）超纯水设备是一种将电渗析（ED）与离子交换技术相结合的水处理设备，用于制备电阻率高达 15-18.2MΩ・cm 的超纯水。其核心功能是通过电化学反应和离子交换树脂的协同作用，高效去除水中的电解质离子、有机物及微生物，满足高纯度用水需求。

EDI 设备的工作原理基于以下三个关键机制

离子交换树脂吸附：水中的阴阳离子被树脂吸附，如阳离子（Na⁺、Ca²⁺）被阳离子树脂吸附，阴离子（Cl⁻、SO₄²⁻）被阴离子树脂吸附。

电渗析驱动力：在直流电场作用下，树脂吸附的离子被电场力驱动，通过阴阳离子交换膜迁移至浓水室，树脂得以 “连续再生”，无需传统化学再生。

水的电解离：电场作用下，水被解离为 H⁺和 OH⁻，持续补充树脂所需的氢离子和氢氧根离子，维持离子交换的持续进行。

组件

功能描述
膜堆	由阴阳离子交换膜、浓水室、淡水室交替排列组成，是 EDI 的核心处理单元。
离子交换树脂	填充于淡水室，吸附水中离子，分为阳离子树脂和阴离子树脂。
电极系统	提供直流电场，包括阳极（产生 O₂）和阴极（产生 H₂），通常采用钛或不锈钢材质。
控制面板	集成电源、流量计、电导率仪等，实时监控运行参数（如电压、电流、水质指标）。
管道与阀门	分为进水、产水、浓水和极水管道，通过阀门控制水流方向和流量。

高纯度与稳定性：产水电阻率可达 18.2MΩ・cm，且水质稳定，满足半导体、制药等行业的严格要求。

环保节能：无需化学药剂再生树脂，减少废水排放；直流电场能耗低，运行成本较传统混床工艺降低 30%-50%。

自动化程度高：可实现全自动化运行，通过 PLC 控制实时调节参数，减少人工维护。

占地面积小：模块化设计，结构紧凑，比传统水处理系统节省 50% 以上空间。

电子工业：半导体芯片、电路板清洗用水，避免离子残留影响元件性能。

制药行业：注射用水（WFI）、无菌制剂生产，符合 GMP 标准。

实验室分析：高效液相色谱（HPLC）、质谱（MS）等精密仪器用水。

光伏与光电：太阳能电池板、液晶显示器（LCD）生产中的高纯度清洗用水。

化工与科研：催化剂制备、纳米材料合成等对水质敏感的实验场景。

预处理要求：进水需经过反渗透（RO）处理，电导率＜20μS/cm，余氯＜0.05mg/L，避免树脂污染。

定期监控：关注电导率、电压、电流及各水流压力，若产水水质下降，可能需清洗膜堆或更换树脂。

防结垢措施：浓水室易因离子浓缩产生碳酸钙结垢，可通过控制 pH 或添加阻垢剂预防。

工艺类型